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  • 首頁 > 技術(shù)文章
    • 淺析橢偏儀的成像技術(shù)原理
      2019-10-28 1335
      橢偏儀的成像技術(shù)為超小塊的電影分析和原位橢圓偏振儀測量,流體環(huán)境橢偏測量分析,可以實現(xiàn)結(jié)合各種技術(shù),例如布儒斯特角鏡、表面等離子體共振、原子力顯微鏡和石英晶體微天平儀器、磅槽、反射光譜法和太赫茲光譜、拉曼光譜和更多的研究人員使用。這些新的功能,擴展產(chǎn)品的橢偏法的應(yīng)用領(lǐng)域。橢偏光學(xué)顯微技術(shù)帶來新的研究也構(gòu)成的技術(shù),例如在非測量液膜的穩(wěn)定性和顯微成像面上的挑戰(zhàn)等。橢偏儀應(yīng)用廣泛在線監(jiān)測薄膜的厚度,對成品率無疑至關(guān)重要。然而保鮮膜在傳送帶上的速度堪比百米飛人博爾特,檢測時間又以秒計...

    • 優(yōu)尼康STM主動式防震臺案例研究:國家納米科學(xué)中心
      2019-10-11 2377
      合作者:國家納米科學(xué)中心“振動對STM的影響一直是我們非常頭痛的問題,使用后我們的噪音水平較被動減震提高了兩倍。”-陳鵬程博士國家納米科學(xué)中心STM主動式防震臺對單分子電子學(xué)研究領(lǐng)域?qū)φ駝拥囊骃TM就是利用針尖與樣品間施加微小電壓時隧道電流隨他們的間距變化十分靈敏,這一效應(yīng),用針尖在表面掃描,測量表面原子排列造成的微小起伏引起的隧道電流的變化,既可獲得原子級分辨率的表面結(jié)構(gòu)信息。STM探針與樣品距離只有約1nm,間距變化10-2nm則隧道電流變化約為一個數(shù)量級,極微小的振動...

    • 臺階儀的三大顯著特點來了解下
      2019-9-25 1218
      臺階儀屬于接觸式表面形貌測量儀器,而且它也被人們叫做臺階測量儀等等。它的結(jié)構(gòu)十分的,因為在它的內(nèi)部有一個功效十分強大的傳感器。與此同時,臺階儀所具有的她點也比較多,主要有十分高的測量精度、測量結(jié)果也是尤其的穩(wěn)定、測量里程較大以及至關(guān)重要的可重復(fù)性等等。但是,臺階儀的性能也會隨著測頭與測頭之間的摩擦而減弱,進而降低測量精度。那么,臺階儀的種類有哪些?接下來小編為大家娓娓道來。臺階儀也被人們叫做臺階測量儀,由于其內(nèi)部存在一個樣式不一的傳感器,因此人們對臺階儀進行分類時,也習(xí)慣利用...

    • 蔡司sigma500電鏡的隔振方案(優(yōu)尼康)
      2019-9-19 2820
      背景:使用單位:哈爾濱工業(yè)大學(xué)+材料科學(xué)研究位于前0.1%行列該研究室主要針對水處理,及水薄膜領(lǐng)域的研究儀器:ZEISSSigma-500+應(yīng)用于高品質(zhì)成像與分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡隔振方案供應(yīng)商:優(yōu)尼康科技有限公司+環(huán)境方案提供商+研究單位服務(wù)商+TableStable主動隔振系統(tǒng)供應(yīng)商描述:+實驗室的外部環(huán)境較為復(fù)雜。同樓層多個研究室并排分布,人員物品來往密集。外部10米范圍內(nèi)的泵房以及電梯井到SEM鏡筒小于5米,由于電梯井的水平面低于實驗室的地面,且是槽式框架結(jié)構(gòu),當(dāng)...

    • 光學(xué)膜厚測量儀的原理和產(chǎn)品特性介紹
      2019-8-27 1315
      光學(xué)膜厚測量儀的特點是非接觸,非破壞方式測量,無需樣品的前處理,軟件支持Windows操作系統(tǒng)等。光學(xué)薄膜測厚儀是使用可視光測量晶圓、玻璃等基材上形成的氧化膜,氮化膜,光致抗蝕劑等非金屬薄膜厚度的儀器。光學(xué)膜厚測量儀測量原理如下:在測量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可視光,這時光的一部分在膜的表面反射,另一部分透進薄膜,然后在膜與底層(晶圓或玻璃)之間的界面反射。這時薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。光學(xué)薄膜測厚儀就是利用這種干涉現(xiàn)象來測量薄膜厚度...

    • 半導(dǎo)體技術(shù)中的薄膜沉積
      2019-6-20 3812
      薄膜的沉積,是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面的擴散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié),以漸漸形成薄膜并成長的過程。薄膜的生成質(zhì)量以及膜厚檢測在半導(dǎo)體制造中有很高的重要性。半導(dǎo)體技術(shù)中薄膜的沉積方式有以下分類:化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition)——CVD反應(yīng)氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并且生成物沉積在晶片表面。物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition)——PVD蒸鍍(Evaporation)利用被蒸鍍物在高溫(近熔點)時,具備飽和蒸汽壓,來沉積薄膜...

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